Übersetzung für 'Fotomaske' von Deutsch nach Russisch

Fotomaske {f}

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• Durch die Nutzung der Polysilizium-Elektrode als Maskierung für den Transistorkanal und der ganzflächigen Dotierung werden die Source- und Drain-Gebiete ohne weitere Fotomaske definiert, in diesem Zusammenhang wird daher von „selbst justierend/ausrichtend“ gesprochen.
• 1 µm dicke Polymerfolie, die über einen fest auf der Fotomaske befestigten Rahmen aus Kunststoff oder Aluminium gespannt ist.
• Die lokale Belichtung erfolgt dabei durch die Abschattung von Licht mithilfe einer Fotomaske, die das gewünschte Muster der Strukturierung enthält, so dass einige Stellen beleuchtet und andere nicht beleuchtet werden.
• Dabei wird die Struktur der Fotomaske in die Hartmaskenschicht übertragen.
• Dennoch ist die optische Abbildung der Strukturen auf einer Fotomaske in eine Fotolackschicht immer ein Kompromiss aus Auflösungsvermögen und Abbildungstiefe, sodass beide Vorteile der Immersionslithografie nie gleichzeitig ausgenutzt werden können.

• Neben der Erkennung von Defekten auf dem Wafer sind vor allem die Erkennung und Entfernung von Defekten auf der Fotomaske wichtig.
• Im Unterschied zu Steppern wird bei Mask Alignern eine Fotomaske verwendet, die die Vorlage für den gesamten Wafer enthält.
• Jede Struktur eines Fertigungsabschnitts (auch als Ebene bezeichnet) des endgültigen Designs wird auf eine Fotomaske (auch Retikel genannt) aufgebracht, diese besteht zum Beispiel aus feinen Chromlinien, die auf hochgereinigtem Quarzglas gefertigt werden.
• Fotomasken müssen absolut fehlerfrei sein, denn ein Fehler würde sich bei der Belichtung in jedem Chip bzw.